一种图案化转移石墨炔薄膜的方法
发布时间:2022-04-13 点击次数:
所属单位:前沿交叉科学技术研究院
专利类型:发明
专利状态:专利授权
授权号:202110310073.0
是否职务专利:否
第一作者:张跃
上一条:一种二维材料光控逻辑门
下一条:一种大面积转移石墨炔薄膜的方法
所属单位:前沿交叉科学技术研究院
专利类型:发明
专利状态:专利授权
授权号:202110310073.0
是否职务专利:否
第一作者:张跃
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