北京科技大学主页平台管理系统吴平--中文主页-- Structural and dielectric properties of Ti and Er co-doped HfO2 gate dielectrics grown by RF sputtering, Applied Surface Science,266,2013

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教师英文名称：Wuping

职称：教授

博士生导师

毕业院校：北京科技大学

学科：凝聚态物理

学历：研究生

学位：博士

所在单位：数理学院

职务：数理学院实验中心主任

电子邮箱：

论文成果

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Structural and dielectric properties of Ti and Er co-doped HfO2 gate dielectrics grown by RF sputtering, Applied Surface Science,266,2013

上一条：Separation patterns between Brazilian nut and reversed Brazilian nut of a binary granular system，Physical Review E, 85, 2012

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