Nonvolatile ferroelectric field control of the anomalous Hall effect in BiFeO3/SrRuO3 bilayer
- 发表刊物：Physical Review Applied
- 合写作者：F. Shao, P. F. Liu, M. X. Wang, J. K. Chen, K. K. Meng, X. G. Xu, J. Miao（苗君）,and Y. Jiang
- 第一作者：Z. Y. Ren
- 卷号：13
- 期号：2
- 页面范围：024044
- 是否译文：否
- 发表时间：2020-01-01
