北京科技大学主页平台管理系统刘金龙--中文主页-- J.L. Liu, C.M. Li, R.H. Zhu, et al. Ohmic contact properties of p-type surface conductive layer on H-terminated diamond films prepared by DC arc jet CVD. International Journal of Minerals, Metallurgy and Materials, 2013, 20(8): 802-807.

+

个人信息

刘金龙Liujinlong

研究员

博士生导师

毕业院校：北京科技大学

学科：材料学

学历：研究生

学位：博士

所在单位：卓越工程师学院

职务：卓越工程师学院副院长

电子邮箱：

同专业博导

论文成果

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

J.L. Liu, C.M. Li, R.H. Zhu, et al. Ohmic contact properties of p-type surface conductive layer on H-terminated diamond films prepared by DC arc jet CVD. International Journal of Minerals, Metallurgy and Materials, 2013, 20(8): 802-807.

发布时间：2022-04-13 点击次数：

是否译文：否

上一条：J.L. Liu, C.M. Li, L.X. Chen, et al. Preparation and characterization of diamond-TiC-Ti-Ag/Cu gradient metallization system. Materials Science Forum, 2011, 687: 722-728.

下一条：S. Liu, J.L. Liu, C.M. Li, et al. The mechanical enhancement of vapor deposited diamond film by plasma low pressure/ high-temperature treatment. Carbon, 2013, 65: 365-370.